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                G-25D型高精密單面光刻機(LED)

                簡介—— 一律涂、 主要用途: 本設備是我公司專門針對各大專院校律涂、企業及科研單位對光刻機的使用特性研發的一種精密光刻機,它 主要用于中

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                一律涂、 主要用途:

                本設備是我公司專門針對各大專院校律涂、企業及科研單位對光刻機的使用特性研發的一種精密光刻機,它 主要用于中小規模集成電路律涂、半導體元器件律涂、光電子器件律涂、聲表面波器件的研制和生產

                二律涂、 主要性能指標

                1律涂、曝光類型:單面;

                2律涂、曝光面積:150×150mm

                3律涂、曝光照度不均勻性:≤±3%

                4律涂、曝光強度:≤30mw/cm2可調;

                5律涂、紫外光束角:≤3

                6律涂、紫外光中心波長:365nm

                7律涂、紫外光源壽命:≥2萬小時;

                8律涂、采用電子快門;

                9律涂、曝光分辨率:1μm

                10律涂、曝光模式:可選擇一次曝光或套刻曝光;

                11律涂、對準范圍:X律涂、Y 調節 ±4mmQ向調節±3°;

                12律涂、套刻精度:1μm

                13律涂、分離量;050μm可調;

                14律涂、曝光方式:密著曝光,可實現硬接觸律涂、軟接觸和微力接觸曝光;

                15律涂、找平方式:氣浮找平;

                16律涂、顯微系統:雙視場CCD系統,顯微鏡91X570X連續變倍(物鏡1.6X10X連續變倍),雙物鏡距離可調范圍50mm120mm,計算機圖像處理系統,19″液晶監視器;

                17律涂、掩模版尺寸:152×152mm

                18律涂、基片尺寸: 110×110mm;

                19律涂、基片厚度:≤5 mm

                20律涂、曝光定時:0999.9秒可調;

                21律涂、電源:單相AC220V  50HZ ,功耗≤1KW

                22律涂、潔凈空氣壓力:≥0.4MPa

                23律涂、真空度:-0.07MPa~-0.09MPa

                24律涂、設備所需能源:

                主機電源: 220V±10%   50HZ,1KW

                潔凈空氣≥0.4MPα

                真空:-0.07~-0.08MPα

                25.G-25D型高精密光刻機的組成:

                LED紫外曝光頭律涂、CCD顯微顯示系統律涂、對準工作臺律涂、電氣控制系統構成


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